ЦИПР-2026: микроэлектроника переходит к единому цифровому контуру и управлению на основе данных

25 мая 2026 | 12:00

В рамках конференции «Цифровая индустрия промышленной России» состоялась экспертная сессия, посвященная созданию цифрового контура в микроэлектронике. Представители Минпромторга России, профильных институтов, разработчиков и промышленных предприятий обсудили стандартизацию отраслевых данных, внедрение искусственного интеллекта на производстве, развитие отечественного САПР и подходы к масштабированию успешных цифровых решений.

Данные как основа конкурентоспособности

Открывая дискуссию, директор Департамента цифровой трансформации и цифровых технологий Минпромторга России Владимир Дождев отметил, что в 2026 году data-driven-подход уже нельзя рассматривать как технологический тренд или опциональное направление развития. По его словам, качество работы с данными напрямую влияет на конкурентоспособность предприятий, скорость производственных и инженерных процессов, качество продукции и экономическую эффективность бизнеса.

Одной из главных задач для отрасли остается выработка единых подходов к описанию и систематизации промышленных данных. Речь идет о создании общей понятийной среды, единых нотаций и глоссария для описания процессов, активов и производственных цепочек. Это особенно важно для микроэлектроники, где на разных стадиях жизненного цикла изделия формируются большие массивы данных, которые должны быть сопоставимы и пригодны для анализа.

Дождев также подчеркнул, что проблема качества данных остается актуальной: в собираемых массивах по-прежнему много «шума», некачественной и плохо структурированной информации. По разным экспертным оценкам, полезной может быть только часть данных — в ходе обсуждения назывались ориентиры от 5% до 20%. Такие данные не всегда пригодны для обучения моделей, создания цифровых продуктов и принятия управленческих решений.

Для решения этой задачи Минпромторг России совместно с другими ведомствами ведет работу над нормативным регулированием оборота промышленных данных. Кроме того, на базе ФГАУ «Цифровые индустриальные технологии» создан реестр открытых ML-моделей, лучших практик и кейсов по применению машинного обучения. Такие решения могут использоваться предприятиями как основа для дальнейшей кастомизации под собственные задачи.

Платформа для микроэлектронных производств и отраслевые LLM

Управляющий директор Центра развития технологического партнерства Сергей Белоусов представил платформу для микроэлектронных предприятий, предназначенную для сбора, преобразования, агрегации, анализа и визуализации производственных данных.

Платформа работает с различными типами данных, характерными для микроэлектронного производства, и интегрируется как с ИТ-системами, так и с оборудованием. По словам Белоусова, уже реализованы интеграции с рядом контрольно-измерительных устройств, а также ведется работа по подключению производственного оборудования.

Система позволяет создавать пользовательские панели управления — «рабочие столы» — для решения прикладных задач, таких как расчет выхода годных, ретроспективный анализ от пластины к пластине и от партии к партии.

В платформу также встроен модуль компьютерного зрения, который может применяться для анализа снимков с микроскопов. В частности, он позволяет измерять геометрические параметры структур на пластине, рассчитывать средние значения и отклонения.

Еще одно направление — виртуальная визуализация процессов плазмохимического травления. Совместно с ООО «НИМЭ» был реализован модуль 3D-визуализации ПХТ-процесса. Такой подход позволяет виртуально оценивать профиль травления в случаях, когда физические измерения требуют дорогостоящей подготовки пластины.

Отдельно Белоусов отметил интеграцию в платформу русифицированного отраслевого эксперта Semicon, который может работать в on-premise-режиме, без необходимости использования облачного хранилища. Также в системе реализованы ассистенты для настройки платформы и умный поиск на основе RAG-технологии, включая поддержку аудио- и видеофайлов при индексации.

Отечественный САПР: маршрут проектирования до 90 нм

Проректор по инновационному развитию НИУ МИЭТ Алексей Переверзев рассказал о разработке отечественного маршрута проектирования цифровых СБИС. По его словам, современные задачи в области микроэлектроники требуют не просто автоматизации отдельных инструментов, а интеграции данных, участников и стадий жизненного цикла изделия.

В рамках программы Минпромторга России создается отечественный маршрут проектирования цифровых СБИС. Первый этап должен завершиться в конце 2026 года. Его результатом должен стать полный маршрут от RTL до GDS, поддерживающий техпроцессы до 90 нм включительно.

Главным элементом проекта является «Единая проектная среда» — платформа, позволяющая конфигурировать маршрут под разные целевые базисы, включая библиотеки стандартных ячеек, БМК и ПЛИС. Ее задача — перейти от запуска отдельных инструментов к управлению процессом проектирования на более высоком уровне абстракции, через описание бизнес-процессов.

Такой подход должен обеспечить прозрачность этапов проектирования, воспроизводимость результатов, возможность интеграции инструментов искусственного интеллекта и связь с другими стадиями жизненного цикла, включая производство и тестирование. С конца 2026 — начала 2027 года разработчики рассчитывают перейти к пилотным внедрениям при участии промышленных партнеров.



Источник: RUБЕЖ